尼康官宣其首款后端工艺用光刻机:1μm 分辨率,2026 财年发售

10 月 24 日消息,尼康本月 22 日宣布该公司正在研发一款面向半导体先进封装工艺应用、“兼具高分辨率及高生产性能”的 1.0 微米(即 1000 纳米)分辨率数字光刻机,该设备预计在尼康 2026 财年(IT之家注:截至 2026 年 3 月 31 日)内发售。 ▲ 设备概念图[查看全文]
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